[포쓰저널] 반도체·배터리 등 국가전략기술 시설투자에 대한 세액공제율이 최대 25%로 대폭 상향된다.

일반 기술 등에 대한 임시투자세액공제도 올해 1년간 한시적으로 도입된다.
 
투자 증가분에 대한 추가 세액공제율도 3~4%에서 10%로 상향된다.

추경호 경제부총리 겸 기획재정부 장관은 3일 윤석열 대통령 주재 제1회 국무회의에서 이런 내용의 '반도체 등 세제지원 강화 방안'을 보고했다.

이번 방안이 그대로 시행될 경우 반도체·배터리·백신·디스플레이 등 국가전략기술 업체들의 세부담은 내년 3조6천억원,  2025년 1조3700억원, 2026년 1조3700억원 이상 줄어들 전망이다.

정부는 이달 중 해당 내용을 담은 조세특례제한법 개정안을 마련해 국회에 제출할 예정이다.

정부안에 따르면 국가전략기술의 당기(연간) 시설 투자에 대한 세액공제율이 대기업의 경우 15%로 상향된다. 

공제율을 현재의 2배 가까운 수준으로 올려 세제 혜택을 대폭 확대하겠다는 의미다.

삼성전자, SK하이닉스 등이 올해 반도체 생산시설에 1조원을 투자한다면 1500억원의 세금을 감면받을 수 있게 된다.

이와 별도로 올해 투자 증가분(직전 3년 평균치 대비)에 대해서는 국가전략기술 여부와 상관없이 10%의 추가 공제 혜택이 주어진다.

이 경우 반도체 등 전략 분야에서 신규 사업에 뛰어드는 대기업은 당기분과 증가분을 합쳐 최고 25%의 세액공제를 받을 수 있게 된다.

중견기업의 당기 공제율도 기존 8%에서 15%로 올라간다.

중소기업의 경우 당기 공제율이 현재 16%에서 25%로 상향된다.

투자 증가분을 포함한 최고 세액공제율은 35%에 달한다.

국가전략기술 연구개발(R&D) 투자에 대한 세액공제률은 현행대로  30∼50% 수준이 유지된다.

기재부에 따르면 반도체의 경우 R&D투자 세액공제률이 이미 세계 최고 수준이다. 반도체 경쟁국인 대만은 25%, 미국은20%, 일본은 6~12%다.

정부는 2011년 이후 중단된 임시투자세액공제도 재도입하기로 했다.

과거 경제 위축기에 활용했던 임시투자세액공제는 투자 업종이나 목적과 상관없이 기업 투자에 일정 수준의 추가 세제 혜택을 주는 제도다.

일반 투자에 대한 세액공제율은 현행 1∼10%에서 3∼12%로 2%포인트(p)씩 일괄 상향된다.

신성장·원천기술 공제율은 3∼12%에서 6∼18%로 기업 규모에 따라 3∼6%p씩 올린다.

올해 신성장·원천기술에 투자하는 대기업은 6%, 중견기업은 10%, 중소기업은 18%씩 공제 혜택을 받을 수 있다는 의미다.

정부는  이번 방안을 올해 1월 1일 투자분부터 소급 적용할 수 있도록 입법을 추진할 계획이다.

앞서 국회는 지난달 23일 대기업의 국가전략기술 시설 투자 세액공제율을 종전 6%에서 8%로 올리는 내용의 조세특례제한법 개정안을 정부안대로 의결했다.

이는 당초 국민의힘 반도체특위가 제시한 20%(대기업 기준)는 물론, 야당인 더불어민주당이 주장한 10%에도 미치지 못하는 수준이었다.

이후 여당과 재계의 반발이 이어지는 가운데에도 정부는 우리나라의 반도체 세제 지원이 주요국과 비교해 높은 수준이라는 입장을 고수해왔다.

그러다 윤석열 대통령이 지난달 30일 "반도체 등 국가전략산업에 대한 세제지원을 확대하는 방안을 검토하라"고 지시한 뒤 정부의 입장은 180도로 바뀌었다.

정부가 이번 공제율 상향안이 기존 더불어민주당 등 야당안을 대폭 웃도는 만큼, 조특법 개정안이 정부 원안대로 통과될 수 있을 지는 불확실하다.